La demanda mundial de aparatos con una potencia de cálculo cada vez más rápida que al mismo tiempo reduzcan el consumo de energía y la transferencia de calor es el reto central de la industria de los semiconductores actual. Para aumentar la densidad de los transistores debe reducirse el tamaño de los mismos. Se espera que la tecnología actual 14-nm/7-nm en la producción en masa comercial sea sustituida por el nodo 3-nm en el año 2023 gracias al procedimiento de litografía EUV (ultravioleta extremo). Estos aparatos contienen más de 100 millones de transistores por milímetro cuadrado y el tamaño real de cada transistor es similar al de una molécula que contiene cadenas de carbono de pocos átomos. Cualquier impureza puede tener un efecto nocivo en el producto final. Por tanto, un entorno de producción limpio es de suma importancia para evitar fallos durante la producción.

Los contaminantes moleculares del aire (AMC) suponen un gran reto durante el proceso de producción en la industria de los semiconductores. Pueden provocar interrupciones del proceso o incluso tasas que ya no pueden utilizarse. El origen de las AMC es múltiple, externo e interno. Los sistemas de filtración de aire son capaces de reducir las partículas de polvo no deseadas, pero pueden fallar cuando pasan componentes orgánicos e inorgánicos volátiles.
El personal que entra en la sala limpia puede representar una fuente de impurezas. En el proceso mismo, los dopantes, ácidos, bases, disolventes o sustancias moleculares desgasificadas son impurezas que pueden influir enormemente en la calidad del producto final. Las impurezas típicas de la fase de gas, que requieren una supervisión constante son SO₂, NH₃, NO₂, H₂S, PGMEA, PGME, ácido acético, IPA, etanol, etilenoglicol, THF, TMS, NMP, aromas y refrigerantes, por solo nombrar unas cuantas.
Los métodos de análisis convencionales no pueden ofrecer resultados en poco tiempo porque a menudo requieren una toma y preparación de la muestra que llevan mucho tiempo antes de poder iniciar el proceso de análisis propiamente dicho. Los resultados pueden tardar horas en estar disponibles, demasiado tarde para intervenir a tiempo si un proceso ya está afectado. Para evitar costosas interrupciones prolongadas del proceso y fallos en el producto final, la supervisión continua en tiempo real del aire de la sala limpia se ha vuelto imprescindible. Las AMC pueden ser dañinas incluso en concentraciones muy reducidas. Por consiguiente, los métodos analíticos para evaluar el aire de las salas limpias no solo requieren una elevada especificidad para las moléculas analizadas, sino también una sensibilidad ultraelevada.

Los analizadores multicomponentes de V&F IMR-MS ofrecen un grado de automatización muy elevado y están equipados con un software fácil de usar. Los aparatos se distinguen por un tiempo de respuesta rápido sin preparación del gas de muestra. Su diseño robusto garantiza un elevado grado de estabilidad, tiempos de parada mínimos y menos mantenimiento.